Jeżeli nie znalazłeś poszukiwanej książki, skontaktuj się z nami wypełniając formularz kontaktowy.

Ta strona używa plików cookies, by ułatwić korzystanie z serwisu. Mogą Państwo określić warunki przechowywania lub dostępu do plików cookies w swojej przeglądarce zgodnie z polityką prywatności.

Wydawcy

Literatura do programów

Informacje szczegółowe o książce

Handbook of VLSI Microlithography - ISBN 9780815514442

Handbook of VLSI Microlithography

ISBN 9780815514442

Autor: Helbert, John N.

Wydawca: Elsevier

Dostępność: 3-6 tygodni

Cena: 1 179,15 zł

Przed złożeniem zamówienia prosimy o kontakt mailowy celem potwierdzenia ceny.


ISBN13:      

9780815514442

ISBN10:      

0815514441

Autor:      

Helbert, John N.

Oprawa:      

Hardback

Rok Wydania:      

2001-04-01

Tematy:      

TJFD

This handbook gives readers a close look at the entire technology of printing very high resolution and high density integrated circuit (IC) patterns into thin resist process transfer coatingsùincluding optical lithography, electron beam, ion beam, and x-ray lithography. The book's main theme is the special printing process needed to achieve volume high density IC chip production, especially in the Dynamic Random Access Memory (DRAM) industry. The book leads off with a comparison of various lithography methods, covering the three major patterning parameters of line/space, resolution, line edge and pattern feature dimension control. The book's explanation of resist and resist process equipment technology may well be the first practical description of the relationship between the resist process and equipment parameters. The basics of resist technology are completely coveredùincluding an entire chapter on resist process defectivity and the potential yield limiting effect on device production.

Each alternative lithographic technique and testing method is considered and evaluated: basic metrology including optical, scanning-electron-microscope (SEM) techniques and electrical test devices, along with explanations of actual printing tools and their design, construction and performance. The editor devotes an entire chapter to today's sophisticated, complex electron-beam printers, and to the emerging x-ray printing technology now used in high-density CMOS devices. Energetic ion particle printing is a controllable, steerable technology that does not rely on resist, and occupies a final section of the handbook.

Issues and Trends Affecting Lithography Tool Selection Strategy
Resist Technology: Design, Processing and Applications
Lithography Process Monitoring and Defect Detection
Techniques and Tools for Photo Metrology
Techniques and Tools for Optical Lithography
Microlithography Tool Automation
Electron Beam ULSI Applications
Rational Vibration and Structural Dynamics for Lithographic Tool Installations
Applications of Ion Microbeam Lithography and Direct Processing
X-Ray Lithography

Koszyk

Książek w koszyku: 0 szt.

Wartość zakupów: 0,00 zł

ebooks
covid

Kontakt

Gambit
Centrum Oprogramowania
i Szkoleń Sp. z o.o.

Al. Pokoju 29b/22-24

31-564 Kraków


Siedziba Księgarni

ul. Kordylewskiego 1

31-542 Kraków

+48 12 410 5991

+48 12 410 5987

+48 12 410 5989

Zobacz na mapie google

Wyślij e-mail

Subskrypcje

Administratorem danych osobowych jest firma Gambit COiS Sp. z o.o. Na podany adres będzie wysyłany wyłącznie biuletyn informacyjny.

Autoryzacja płatności

PayU

Informacje na temat autoryzacji płatności poprzez PayU.

PayU banki

© Copyright 2012: GAMBIT COiS Sp. z o.o. Wszelkie prawa zastrzeżone.

Projekt i wykonanie: Alchemia Studio Reklamy